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上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40

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    考夫曼离子源 KDC 40

KRI 考夫曼离子源 KDC 40

上海伯东代理美国原装进口 KRI 考夫曼离子源 KDC 40: 小型低成本直流栅极离子源. KDC 40 是 3cm 考夫曼型离子源升级款. 具有更大的栅极, 更坚固, 可以配置自对准第三层栅极. 离子源 KDC 40 适用于所有的离子工艺, 例如预清洗, 表面改性, 辅助镀膜, 溅射镀膜, 离子蚀刻和沉积. 离子源 KDC 40 兼容惰性或活性气体, 例如氧气和氮气. 标准配置下离子能量范围 100 至 1200ev, 离子电流可以超过 120 mA.



KRI 考夫曼离子源 KDC 40 技术参数



型号



KDC 40



供电



DC magnetic confinement



- 阴极灯丝



1



- 阳极电压



0-100V DC



电子束



OptiBeam™



- 栅极



专用, 自对准



-栅极直径



4 cm



中和器



灯丝



电源控制



KSC 1202



配置



-



- 阴极中和器



Filament, Sidewinder Filament 或LFN 1000



- 架构



移动或快速法兰



- 高度



6.75'



- 直径



3.5'



- 离子束



集中

平行

散设



-加工材料



金属

电介质

半导体



-工艺气体



惰性

活性

混合



-安装距离



6-18”



- 自动控制



控制4种气体



* 可选: 可调角度的支架





KRI 考夫曼离子源 KDC 40 应用领域

溅镀和蒸发镀膜 PC

辅助镀膜(光学镀膜)IBAD

表面改性, 激活 SM

离子溅射沉积和多层结构 IBSD

离子蚀刻 IBE



若您需要进一步的了解考夫曼离子源, 请参考以下联络方式

上海伯东: 罗先生

 
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