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Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J

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详细说明

    上海伯东日本原装进口适合大规模量产使用的 Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J





Hakuto 离子蚀刻机主要优点:



1. 干式制程的微细加工装置, 使得在薄膜磁头, 半导体元件, MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用.



2. 物理蚀刻的特性, 无论使用什么材料都可以用来加工, 所以各种领域都可以被广泛应用.



3. 配置使用美国考夫曼离子源



4. 射频角度可以任意调整, 蚀刻可以根据需要做垂直, 斜面等等加工形状.



5. 基板直接加装在直接冷却装置上, 所以可以在低温环境下蚀刻.



6. 配置公转自转传输机构, 使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面.



7. 机台设计使用自动化的操作流程, 所以可以有非常友好的使用生产过程.











Hakuto 离子蚀刻机 20IBE-J技术参数



离子蚀刻



Φ4 inch X 12片



基片尺寸



Φ4 inch X 12片

Φ5 inch X 10片

Φ6 inch X 8片



样品台



直接冷却,水冷



离子源



Φ20cm 考夫曼离子源









Hakuto 离子蚀刻机 IBE 通氩气 Ar 不同材料的蚀刻速率:

NS离子蚀刻机











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上海伯东 : 罗先生 台湾伯东 : 王小姐



T: +86-21-5046-1322 T: +886-3-567-9508 ext 161



F: +86-21-5046-1490 F: +886-3-567-0049



M: +86 152-0195-1076 M: +886-939-653-958







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